Διαθέσιμοι βαθμοί καθαρότητας στόχου MH Niobium

99,95% (4Ν) Νιόβιο Στόχος

● Εξαιρετικά-υψηλή καθαρότητα με εξαιρετικά χαμηλές μεταλλικές και αέριες ακαθαρσίες

● Σταθερό πλάσμα, χαμηλή παραγωγή σωματιδίων

● Κατάλληλο για ηλεκτρονικά φιλμ ημιαγωγών, υπεραγώγιμων-και υψηλής ποιότητας

99,9% (3Ν) Νιόβιο Στόχος

● Υψηλή καθαρότητα με εξαιρετική σχέση κόστους-απόδοσης

● Αξιόπιστη σταθερότητα εκτόξευσης για εφαρμογές βιομηχανικής επίστρωσης

● Κατάλληλο για γενικές ηλεκτρονικές, οπτικές και λειτουργικές επιστρώσεις

MH Νιόβιο Στόχοι Μορφές

Παρέχουμε στόχους νιοβίου σε πολλαπλές γεωμετρίες για να ταιριάζουν με διαφορετικά συστήματα ψεκασμού:

Ορθογώνιος / Τετράγωνος στόχος

● Επίπεδα συστήματα sputtering

● Κάθοδοι διασκορπισμού μαγνητρονίων

● Εναπόθεση μεμβράνης μεγάλης-επιφάνειας

Σωληνοειδής στόχος

● Περιστροφικά συστήματα ψεκασμού

● Υψηλότερο ποσοστό αξιοποίησης στόχου

● Βελτιωμένη ομοιομορφία επίστρωσης και απόδοση παραγωγής

(Προσαρμοσμένες διαστάσεις και επιλογές συγκόλλησης είναι διαθέσιμες κατόπιν αιτήματος.)

Εύρος προδιαγραφών στόχου MH Niobium

Καθαρότητα	99.9%, 99.95%
Πυκνότητα	Μεγαλύτερη ή ίση με το 99,9% της θεωρητικής πυκνότητας
Δομή κόκκων	Λεπτό και ομοιόμορφο
Φινίρισμα επιφάνειας	Ra0.4
Ορθογώνιος / Τετράγωνος στόχος	Μήκος μικρότερο ή ίσο με 3000 mm, Πλάτος μικρότερο ή ίσο με 800 mm, Πάχος (mm) 1~20 mm
Σωληνοειδής στόχος	Εξωτερική Διάμετρος 10-400mm, Τοίχος 2-28mm

99,95% vs 99,9% – Οδηγός επιλογής

Είδος	99,95% Nb Στόχος	99,9% Nb Στόχος
Επίπεδο καθαρότητας	Εξαιρετικά-υψηλή καθαρότητα (4Ν)	Υψηλή καθαρότητα (3Ν)
Περιεχόμενο ακαθαρσίας	Εξαιρετικά χαμηλό	Χαμηλός
Ποιότητα ταινίας	Υψηλότερη ομοιομορφία & σταθερότητα	Σταθερός, βιομηχανικός-βαθμός
Δημιουργία Σωματιδίων	Ελάχιστος	Χαμηλός
Τυπικές Εφαρμογές	Ημιαγωγοί, υπεραγώγιμα φιλμ, Ε&Α	Οπτικές επιστρώσεις, λειτουργικές μεμβράνες, μαζική παραγωγή
Επίπεδο Κόστους	Πιο ψηλά	Πιο οικονομικό

Rectangular vs Tubular Target – Οδηγός επιλογής

Σύγκριση	Ορθογώνιος / Τετράγωνος στόχος	Σωληνοειδής στόχος
Συμβατότητα διαδικασίας	Επίπεδη κατάδυση, Μαγνητόνιο Sputtering	Κυλινδρικό Sputtering
Αξιοποίηση Υλικού	20%~30%	70%~85%
Κόστος προμήθειας	Μέτριος	Πολύ υψηλότερο από τους στόχους πλάκας
Αποδοτικότητα Παραγωγής	Μικρές παρτίδες, επιστρώσεις πολλαπλών-ποικιλιών	Μεγάλες παρτίδες και συνεχείς επικαλύψεις
Επεξεργασία Επιφανειών	Λεπτή λείανση και στίλβωση	Λεπτό τρίψιμο, πιο δύσκολο
Προτεινόμενα Υλικά	Καθαρό Νιόβιο (99,95%), Nb-1Zr	Καθαρό νιόβιο (99,95%), Nb-1Zr (υψηλής θερμοκρασίας ειδικού σκοπού)

MH Niobium Target Τυπικές εφαρμογές

Λεπτές μεμβράνες ημιαγωγών

Υπεραγώγιμα επιχρίσματα νιοβίου

Οπτικές και διακοσμητικές επιστρώσεις

Οθόνη και ηλεκτρονικές συσκευές

Έρευνα και προηγμένες λειτουργικές ταινίες

Γιατί να επιλέξετε MH Niobium Targets

● Υψηλή Καθαρότητα & Σταθερή Απόδοση Ψεκασμού

● Ομοιόμορφη μικροδομή και υψηλή πυκνότητα

● Διαθέσιμες Πολλαπλές Γεωμετρίες: Ορθογώνιο & Σωληνοειδές

● Προσαρμοσμένες διαστάσεις και λύσεις συγκόλλησης

● Αποδεδειγμένη χρήση σε προηγμένες εφαρμογές επίστρωσης

Οι στόχοι επιμετάλλωσης νιοβίου μας προσφέρουν αξιόπιστη καθαρότητα, συνεπή συμπεριφορά κατάδυσης και απόδοση μεμβράνης υψηλής-ποιότητας για απαιτητικές εφαρμογές λεπτής μεμβράνης.